介紹:溶于酸,不溶于沸水及堿性溶液中,在濕空氣中能形成氫氧化物薄膜。
熔點:157°C
沸點:2000°C
儲存條件:密封充氬保存。
用途:主要用作包覆層(或制成合金)以增強金屬材料的耐腐蝕性,并廣泛用作電子器件。合金涂層作反射器。銦合金用作反應堆控制棒等。磷化銦銻化銦等都是半導體材料。
熔點:157°C
沸點:2000°C
儲存條件:密封充氬保存。
用途:主要用作包覆層(或制成合金)以增強金屬材料的耐腐蝕性,并廣泛用作電子器件。合金涂層作反射器。銦合金用作反應堆控制棒等。磷化銦銻化銦等都是半導體材料。